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抛光工藝的影響
打印本頁    發布時間:2018/3/15 14:17:06
    ①溫度:溫度升高,加強了抛光液化學反應能力,抛光速率增加。但過高的溫度會引起抛光

 

揮發,以及加快化學反應,表面腐蝕嚴重,因而會産生不均勻的抛光效果,使抛光質量下

 

降。


    ②pH值:抛光液的pH值越高,堿性越強,反應速率越快。但pH值對被抛表面刻蝕、磨料的分

 

與溶解度、抛光液的穩定性有很大的影響, 從而影響材料的去除率和表面質量, 因此應嚴格

 

制。


    ③壓力:一般地,壓力越大,抛光速率越快。但是壓力足夠大時,抛光速率會略微下降,原

 

壓力大,抛光墊承載抛光液能力下降。另外,壓力大易形成破片現象。


    ④轉速:轉速增加,會引起抛光速率增加。但轉速過高又會使抛光液在抛光墊上分布不均

 

勻,響抛光質量。


    ⑤抛光液濃度:抛光液的濃度增加時,去除率也随之增加,但當磨粒濃度超過某一值時,材

 

除率将停止增加,維持一個常數值,這種現象稱為去除飽和。而且過高的濃度,有可能造

 

成表缺陷(劃痕)增加,影響表面質量。

 

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